News and Information
在芯片制造的工藝環節中，需要處理和轉移多種不同類型的高純度化學品，其中許多化學品是具有強腐蝕性的，例如硫酸(H2SO4)、鹽酸(HCl)、硝酸(HNO3)、磷酸(H3PO4）、氫氟酸(HF)和過氧化氫(H2O2)。
概括而言，這些化學品在芯片制造的主要工序中大致需要被傳輸兩次：首先，它們被泵入各種清洗、涂層、蝕刻、剝離、沉積和化學機械平坦化的工藝過程，將晶圓變成實際的芯片；其次，將使用后的化學品移除到廢水中和中和處理及處置過程。
應用條件
在半導體生產過程中，對用于化學品和廢水運輸的工業泵的要求是特定的和嚴格的：
-
能夠自吸并維持較高流量
-
能夠處理不同粘度的液體
-
某些特定工況中能夠處理最高達200°C的液體
-
能夠泵送帶有磨料顆粒的液體
-
能夠泵送具有腐蝕性、有毒的危險液體
考慮到這些關鍵因素，氣動雙隔膜（AODD）泵，已經成為半導體制造商在優化化學品和廢水運輸活動方面的首選。源于德國的Almatec®提供了兩種氣動隔膜泵的產品線：E系列和FUTUR系列，可以滿足半導體制造商的需求。
FUTUR 系列
對于高純度化學品的轉移，Almatec® FUTUR 系列 AODD 泵經過德國工程團隊的精心設計，使液體可以直接流過中心殼體內的產品腔室。這種設計確保只有殼體的一側與液體接觸，從而將流動彎頭數量減少到只有兩個，同時降低表面積，消除了在產品腔室內使用滑動部件以及在浸潤區域使用O型圈的需要。FUTUR 泵還具有無緊固元件，如拉桿或卡箍，產品腔室之間無接觸級聯密封有助于提高泵的結構完整性。所有這些設計改進都有助于在泵操作過程中減少顆粒物的產生。
FUTUR系列提供四種型號，用于不同的半導體生產應用：
FUTUR T：
具有更強的抗腐蝕性能和高拉伸強度，適用于處理酸和堿液。
FUTUR H：
適用于高溫（最高200℃）下處理酸和堿液的應用。
FUTUR E：
具有抗磨損性能，適用于處理半導體拋光液和化學機械研磨（CMP）。
FUTUR S/SH：
由實心316L不銹鋼制成，適用于溶劑混合物和去除劑的使用。
E系列
在半導體制造中的廢水處理方面，Almatec®提供了 E 系列氣動隔膜泵，E系列基于Almatec最初于1984年推出的A-Series模型，經過40多年不斷迭代優化，在行業內一直被認為是領先的塑料AODD泵。E系列設計中采用了創新的環形緊固結構；通過優化的流動模式增加了流量容量；降低了空氣消耗量和噪音水平；并且可選脈動阻尼器以提供更為穩定的流體傳輸。
E系列泵的特點和優點包括：
-
創新采用PE/PE導電或PTFE/PTFE導電的堅固塑料塊結構
-
更具流體特性的多種膜片材質選擇
-
具備自吸和低剪切力的流體傳輸
-
殼體螺栓緊固在與隔膜大小相同的環形上，將螺栓力分散開，并允許更高的螺栓扭矩
-
沒有傳動、旋轉部件或軸封
-
PERSWING P®氣控系統無需潤滑或額外維護
-
通過CE，DIN EN ISO 9001:2008和DIN ISO 14001:2004認證
-
可選ATEX認證泵型
在半導體制造中，Almatec® E系列和FUTUR系列氣動隔膜泵可發揮關鍵作用，確保高效且可靠的運行。
如需了解更多Almatec®產品信息，請撥打服務熱線 400 600 4026或發送郵件至[email protected]。
關注官方微信